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功能
PICOSUN™ R-200标准型、PICOSUN™ R-200高级型、 PICOSUN™P-300B型号是专为科研及小批量生产提供解决方案。系统可集成手套箱，超高真空系统、手动或半自动加载系统，集群系统，粉末反应腔，反应腔和各种在线分析系统。系统可配备高功能和易于交换的液体、气体和固体化学品前体源。与手套箱、粉末室和各种原位分析系统的集成。
典型基片尺寸和类型：50-200mm硅片、156mm*156mm光伏硅片
处理温度：50-500℃，等离子450℃ (650 ℃加热盘可定制)
典型工艺：Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HFO2,ZnO,ZrO2,TiN,AlN,金属材料Pt或Ir等氧化物、氮化物或金属等材料
前驱体源路：液态、固态、气态、臭氧源、等离子体
4根/6根独立源管线，最多加载12个前驱体源(加上Plasma管路，共7根独立源管线)
集群工具， PicoFlow™扩散增强器，roll-to-roll腔室、
超高真空兼容、RGA、N2发生器、尾气处理器、定制设计，手套箱集成。(用于惰性气体下装载)
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