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功能
IMC200解决了用于新型离子注入和先进研究的设备短缺问题,提供下列性能:
中束流200keV单价离子注入
常规B、P、As、H、N 离子注入
SiC高温Al 注入
终端手动/自动上下料
离子源可配置4路气体工艺气体及4路中性气体
设计操作简单,直观友好用户界面
注入晶圆尺寸:4 "、5"、 6"
易维护、设备可通过网络与工厂快速连接在线诊断故障
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图片ALT信息: 西安思密康电子科技有限公司
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