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AW-901eR、AW-903eR全自动单片晶圆台式平行式各向同性、异性干法刻蚀设备

所属分类：

关键词：

气孔

阳极

氧化

推荐工艺时间：每步0–300秒。根据客户需要可以实现更长时间工艺

产品详情

AW-901eR、AW-903eR技术指标：

● AW-901eR和AW-903eR主要区别：

型号	AW-901eR	AW-903eR
压力（毫托）	0 1000，压力控制UPC 225 SCCM	0 5000，压力控制UPC 2000 SCCM
刻蚀材料	多晶硅、氮化硅	二氧化硅
晶圆PINs长度	1.79"	2.125"
晶圆环	凹凸结构的铝环	凹凸结构的陶瓷环
上下电极距离	38毫米	6毫米
下电极	3"~6"，无阳极氧化，无平边	3"~6"，阳极氧化，平边
上电极	进、出气孔于一体，含 221 个进气孔00.031"、60 个出气孔 00.062"，冷却液沿外径流动，未阳极氧化	进、出气孔于不同部件上，含 593个进气孔00.008"-0.016"、 60个出气孔00.130"，冷却液沿外径流动和阳极氧化的喷淋头
工艺气体﹣SCCM	50-02,60-Ar, 25-CFCL3, 100-SF6	15-N2, 50-CHF3, 15-SF6, 200-He

● 推荐工艺时间：每步0–300秒。根据客户需要可以实现更长时间工艺。

● 推荐工艺温度范围：典型工艺15°C–60°C。Chuck温度重复性：±2-±5°C。

● 平均无故障时间（MTBF）：小于450小时；平均维修响应时间（MTTA）：小于100小时；平均修复时间（MTTR）：小于3.5小时，大于95%开机率（或“设备利用率”），具体视客户应用。

● 可以包括Allwin21自主开发的EOP功能、GEM SECS，适合自动化生产场景。

● AW-901eR和AW-903eR主要区别。

图片ALT信息：西安思密康电子科技有限公司

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